芯片制造全过程-晶片制作(图示)

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芯片制造流程涵盖芯片设计、晶片制作、封装制作、成本测试等环节,其中晶片制作过程尤为复杂。接下来,我们通过图示来了解晶片制作的过程。

1. 从沙子到硅片

前一篇文章《沙子如何变成硅?》中提到了以下步骤。

从多晶硅到硅片的12个大工艺流程:

1)多晶硅:熔融单质硅在过冷条件下凝固时,硅原子以金刚石晶格形态排列成许多晶核,形成多晶硅。

2)晶体生长

3)单晶硅锭

4)晶体修整和研磨

5)切片

6)边缘倒圆

7)研磨

8)蚀刻(化学抛光)

9)抛光

10)清洁

11)检查

12)包装/运输

2. 从硅片到IC

硅片到IC的处理流程分为前端(FE)工艺和后端(BE)工艺。

2.1 前端(FE)工艺:

(1)晶圆制备

(2)半导体电路设计

(3)掩模板制备

(4)氧化分层

(5)光刻胶涂层

(6)步进曝光

(7)光刻

(8)蚀刻

(9)离子注入

(10)气相沉积

(12)电镀处理

(13)晶圆测试

2.2 后端(BE)工艺:

•固化裸片粘贴浆料

•引线键合

•打标

芯片横截面

封装

封装将制造完成晶圆固定,绑定引脚,按照需求制作成不同封装形式,如DIP、QFP、PLCC、QFN等。

测试

芯片制造的最后一道工序为测试,分为一般测试和特殊测试。一般测试测试封装后的芯片电气特性,特殊测试根据客户需求进行针对性测试。合格产品贴上标识并包装出厂,不合格产品降级或报废。


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