中国光刻机追赶国外先进水平还要多久？

中国科技的巨大飞跃：28nm国产光刻机即将交付

上海微电子装备(集团)股份有限公司已宣布，计划于2021-2022年间交付首台28nm工艺的国产沉浸式光刻机，这一突破标志着我国在光刻技术领域的显著进步。尽管与国际顶尖的7nm和5nm技术仍有差距，但与先前的90nm相比，国产光刻机的性能已显著提升。

作为国内光刻设备的领头羊，上海微电子凭借技术优势已深入细分市场，在国内市场占据了高达80%的占有率，全球市场份额也达到了40%。其LED/MEMS/功率器件光刻机表现出色，尤其在LED光刻机领域独占鳌头。

上海微电子拥有包括600系列步进扫描投影光刻机在内的四大系列，其中600系列专为IC前道制造设计，采用四倍缩小倍率的投影物镜，结合工艺自适应调焦调平技术和高速高精度的自减振六自由度工件台掩模台技术，适用于90nm、110nm、280nm工艺以及200mm、300mm晶圆生产。

500系列针对IC后道先进封装，300系列适用于LED、MEMS和功率器件制造，而200系列则聚焦于TFT曝光领域，展现了上海微电子在不同应用场景下的广泛适应性。